化学物清除选项 - HMP155

HMP155 用户指南

Document code
M210912ZH
Revision
G.1
Language
中文 (大陆)
Product
HMP155
Document type
用户指南

化学物清除选项适合暴露于化学污染环境中的安装位置,例如化工厂和道路。

在某些应用场合,传感器增益可能会逐渐降低,例如,由于所测气体中存在某种化学物导致干扰所引起。下图展示了干扰性化学物和化学物清除过程导致的传感器增益降低的情况。

图 1. 传感器增益下降

传感器高分子吸收干扰性化学物,这会降低高分子吸收水分子的能力,从而导致传感器增益下降。在化学物清除中,将湿度传感器加热到大约 +180 °C 约几分钟可使干扰性化学物挥发。

您可以设置化学物清除(启动清除),使之在 HMP155 启动后 10 秒内启动。清除具有加热阶段和冷却阶段。在 8 分钟的清除周期后,传感器会恢复正常模式。

化学物清除功能会将输出值锁定 8 分钟左右。
小心 避免在低于冰点的温度下使用清除功能。低温会降低清除效果。传感器恢复正常功能也需要更长的时间。